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Porometer的MP²技術(shù)已正式獲得專利

2025-11-13

 Porometer的MP²技術(shù)(多級壓力步進(jìn)平衡法——現(xiàn)已正式獲得專利——將精密孔隙測量提升至全新高度。

 


該技術(shù)專為POROLUX™ Revo系列設(shè)計(jì),MP²技術(shù)引入智能壓力控制功能,確保每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)都在時(shí)機(jī)和精確壓力下采集——從而實(shí)現(xiàn)當(dāng)今精準(zhǔn)、可重復(fù)性最高的孔徑測量。

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獲專利的MP²技術(shù)

MP²代表多級壓力步進(jìn)平衡法。這項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)能確保測量過程中壓力平穩(wěn)提升,并加速達(dá)到流量與壓力穩(wěn)定狀態(tài)。

 

為何為MP²技術(shù)申請專利

我們?yōu)镸P²技術(shù)申請專利,既是為了保護(hù)這項(xiàng)真正推動(dòng)孔隙測量科學(xué)發(fā)展的突破性成果,也是為了慶祝這一創(chuàng)舉。


通過重新定義壓力控制,MP²技術(shù)確保了無懈可擊的階梯穩(wěn)定性,并在整個(gè)過程運(yùn)行中持續(xù)保持高速。


這不僅是技術(shù)升級——更是數(shù)據(jù)精度與儀器可靠性的里程碑。


Aptco Technologies總經(jīng)理Kees van der Kamp強(qiáng)調(diào)此項(xiàng)新專利的重要性:

 

“我們的MP²技術(shù)獲得官方專利認(rèn)證,是對團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)所達(dá)成的深層科學(xué)理解與工程精度的肯定。這彰顯了Porometer對待創(chuàng)新的嚴(yán)謹(jǐn)態(tài)度——我們儀器的每個(gè)細(xì)節(jié)都植根于專業(yè)知識(shí)、豐富經(jīng)驗(yàn)以及對精準(zhǔn)性的不懈追求。”


MP²技術(shù)的功能

MP²技術(shù)通過智能方式全程管理測量過程中的壓力建立與穩(wěn)定階段:
在各選定測量點(diǎn)前精準(zhǔn)緩釋壓力
保持每個(gè)壓力階躍的持續(xù)穩(wěn)定與高度一致性
僅在氣流與壓力達(dá)到完全穩(wěn)態(tài)時(shí)采集有效數(shù)據(jù)點(diǎn)

 

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注:圖示為采用POROLUX™ Revo測量的聚合物平板膜濕曲線、干曲線及半干曲線 b)擬合孔徑分布圖


這項(xiàng)技術(shù)確保測試結(jié)果具有一致性、可靠性,為材料研究構(gòu)建堅(jiān)實(shí)的認(rèn)知基礎(chǔ)。

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為您帶來的價(jià)值
內(nèi)置MP²技術(shù)的POROLUX™ Revo系列使用戶享有:
• 更高測量精度與結(jié)果復(fù)現(xiàn)性
• 1mbar級精準(zhǔn)控制的壓力遞增區(qū)間
• 更平滑的濕曲線與更精細(xì)的孔徑分布圖,同時(shí)實(shí)現(xiàn)最小化壓力波動(dòng)
• 針對無紡布、紡織品及徑跡蝕刻膜等材料實(shí)現(xiàn)更快更穩(wěn)定的測量周期


結(jié)論
獲得專利的MP²技術(shù)奠定了Porometer在孔隙測量領(lǐng)域創(chuàng)新的地位。


通過將智能過程控制與數(shù)十年專業(yè)經(jīng)驗(yàn)相結(jié)合,Porometer持續(xù)將精準(zhǔn)性與可靠性提升至全新高度。


注:以上內(nèi)容編譯自Porometer,圖片等內(nèi)容版權(quán)歸屬于Porometer

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